有人說，激光清洗也叫激光燒灼，這是對(duì)激光清洗認(rèn)識(shí)太狹隘了，激光清洗絕不等于激光燒蝕。

激光清洗前，要先確定污染物是什么，基底材料是什么，激光清洗的目的是利用不同的激光對(duì)不同材料起反應(yīng)的特點(diǎn)，清除污染物，同時(shí)不傷害基底材料。先確定污染物和基底材料然后選擇合適的激光。目前可以用于激光清洗的激光類型主要有三種，波長(zhǎng)為1064nm的光纖激光，波長(zhǎng)為10600nm的二氧化碳激光，波長(zhǎng)為355nm的紫外激光。三種激光又細(xì)分為脈沖激光和連續(xù)激光。

光纖激光和二氧化碳激光的作用原理主要是燒蝕作用，但是紫外激光作用原理是光化學(xué)作用，也俗稱冷光源。光纖激光主要對(duì)導(dǎo)體材料和半導(dǎo)體材料起作用，二氧化碳激光主要對(duì)絕緣體材料起作用，紫外激光對(duì)所有材料都起作用。光纖激光和二氧化碳激光在清洗的過程中利用激光讓物質(zhì)氣化消失，因此是熱效應(yīng)，紫外激光類似于打斷分子鍵，類似于電解水的原理，水變成氫氣和氧氣而消失。因此紫外激光在清洗過程中幾乎不產(chǎn)生熱量，或者只有很少的熱量。

在微觀角度是怎么發(fā)生的呢？可以這么來理解。激光也是一種光，它的光速和陽(yáng)光是一樣的，3*10~8次方，不同的光有不同的波長(zhǎng)和振動(dòng)頻率，波長(zhǎng)*頻率=光速。因此不同波長(zhǎng)有不同的振動(dòng)頻率。比如光纖激光的波長(zhǎng)是1064nm，它的振動(dòng)頻率等于3*10~8/1064，二氧化碳激光的振動(dòng)頻率等于3*10~8/10600，金屬材料分子振動(dòng)活躍，當(dāng)金屬分子的振動(dòng)頻率和激光的振動(dòng)頻率相同時(shí)，就會(huì)發(fā)生共振，分子間的摩擦力加大，瞬間產(chǎn)生大量的熱超過氣化點(diǎn)被氣化消失。絕緣材料分子間運(yùn)動(dòng)不活躍，運(yùn)動(dòng)頻率正好和波長(zhǎng)為10600nm的二氧化碳激光頻率相同，當(dāng)激光照射時(shí)候產(chǎn)生共振，瞬間產(chǎn)生大量的熱，氣化消失。紫外激光和其他兩種光源截然不同，因?yàn)樗恼駝?dòng)頻率高，激光能量更高，它可以打斷幾乎所有材料的分子鍵。

激光清洗先確定污染物和基底材料，激光清洗僅僅是清除污染物，同時(shí)不損傷基底材料。激光容易控制，精細(xì)化程度高，可以在微米級(jí)別清除污染物，比如芯片清洗，只有激光可以做到。隨著各種波長(zhǎng)激光器的誕生，激光清洗發(fā)揮空間越來越大。同時(shí)應(yīng)該站在更高的角度來看激光清洗，激光除銹，激光除漆，激光清洗模具，激光清洗電路板等，都只是激光清洗行業(yè)的冰山一角。根據(jù)不同的目的，選擇不同的激光，組裝不同的機(jī)器，才能達(dá)到最佳的效果。

總結(jié)一下，激光清洗包括熱清洗和冷清洗，光纖激光和二氧化碳激光屬于熱清洗，原理是激光和物質(zhì)發(fā)生共振，瞬間產(chǎn)生大量的熱使得物質(zhì)氣化消失。而紫外激光屬于冷清洗，清洗過程不產(chǎn)生熱量。原理是激光能量直接打斷分子鍵，讓物質(zhì)分解消失。激光清洗應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛，隨著各種激光器價(jià)格不斷下降，激光清洗的經(jīng)濟(jì)性越來越強(qiáng)，在一些特殊領(lǐng)域，只有激光清洗才能完成特定的任務(wù)。比如激光清洗芯片，芯片表面有微米級(jí)別的污染物，它與芯片的吸附力非常強(qiáng)，除激光外的任何清洗方法都不能徹底清洗，導(dǎo)致芯片壽命大幅減小，隨著激光清洗的出現(xiàn)，可以有效的提升芯片的使用壽命。激光為啥可以清洗芯片呢？我大概介紹一下清洗過程。激光的清洗精度最低可以達(dá)到一微米級(jí)別，把芯片放在CCD視覺檢測(cè)系統(tǒng)下，在萬倍鏡下，可以精確鎖定污染物，然后發(fā)射激光精準(zhǔn)攻擊，達(dá)到去除污染物的目的。在合適的激光參數(shù)下，會(huì)確保芯片不收到損傷。芯片清洗也僅僅是冰山一角而已，還有很多很多可以清洗的項(xiàng)目，很多應(yīng)用場(chǎng)景。但任何清洗前，都要先明白基本原理和清洗邏輯。

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